花魔芋对铜和铬单一胁迫的响应研究
Studies on Response for Single Stress of Copper and Chromium in Amorphophallus konjac
花魔芋(Amorphophallus konjac K. Koch)为天南星科(Araceae)魔芋属(Amorpho- phallus)植物,因含有丰富的葡甘聚糖作为食品工业原料具有良好的开发应用价值.但在种植上存在病害严重、繁殖系数低等问题,制约了魔芋原料的生产.本研究在前人的研究基础上采用盆栽方式结合实验测定,以楚雄花魔芋小球茎为材料,通过土壤施铜、铬和叶面喷洒铜、铬对魔芋进行处理,研究了铜和铬单一胁迫对魔芋的生长、病害发生情况和软腐病接种后病情、生理生化指标、收获魔芋球茎农艺性状及经济指标的影响.对魔芋对铜和铬单一胁迫的响应进行研究,以及对适量的重金属铜、铬能否作为有效防治魔芋软腐病的药剂进行探讨,为生产上施肥、施农药等提供一定的理论依据.结果如下: (1)花魔芋在土壤和叶面喷施铜和铬的单一胁迫条件下,仅有土壤施铜处理对花魔芋地上部分生长具有促进作用,而其他处理均表现为抑制作用.花魔芋在铜和铬单一胁迫条件下对其小叶和根的生长均随处理铜和铬及其浓度不同而异,不同生育期也不一致.花魔芋在铜和铬单一胁迫条件下,土壤施铜和铬的处理可加速花魔芋的衰老,而叶面喷洒铜和铬的处理可减缓其衰老. (2)铜和铬单一胁迫对自然条件下花魔芋发病率无影响,但对魔芋软腐病在接种条件下的具有抑制作用,其效果为土壤施铜处理>叶面喷洒铜处理>土壤施铬处理>叶面喷洒铬处理. (3)花魔芋在土壤施用的铜和铬单一胁迫条件下,叶片POD活性和MDA含量增加,而CAT活性则降低.花魔芋在在叶面喷施铜和铬的处理中,花魔芋生长初期,POD与CAT活性和MDA含量变化与土壤施用的胁迫条件下一致,但生长后期则与对照无异.花魔芋植株含水量随土壤施铜和铬胁迫浓度升高而降低,而叶面喷施低浓度的铜和铬处理后可提高花魔芋植株含水量. (4)铜、铬单一胁迫对魔芋球茎农艺性状及经济指标的影响主要表现为: ①土壤施铜处理可使魔芋繁殖系数提高:36.80%、25.54%、19.48%、44.59%、而其他处理均表现为降低.叶面喷施30~90mg/L的铬,花魔芋的膨大系数提高22.80%、25.92%、15.06%,其他处理花魔芋的膨大系数均降低. ②土壤施铜浓度在375mg/Kg以下,花魔芋球茎铜含量随浓度的增加而增加,浓度500mg/Kg时表现为下降,而土壤施铬的变化规律则相反;叶面喷施铜浓度在0~50 mg/L范围内,花魔芋球茎中铜含量随喷施铜浓度的增大而增加,高于50mg/L浓度则随喷施铜浓度的增大而降低;叶面喷施铬浓度为0~90 mg/L范围内花魔芋球茎中铬含量均较低,而铬浓度120mg/L时则大幅增加. ③花魔芋球茎葡甘聚糖含量与土壤施用铜不同浓度间变化趋势不明显;土壤施铬浓度在0~150 mg/Kg范围内,花魔芋球茎葡甘聚糖含量随浓度的增加而增加,而铬浓度高于150 mg/Kg则急剧下降;叶面喷施铜浓度在0~50 mg/Kg范围内,花魔芋球茎葡甘聚糖含量随浓度的增加而降低,高于50 mg/Kg则随浓度的增加而增加;叶面喷施铬浓度在0~30 mg/Kg范围内,花魔芋球茎葡甘聚糖含量随浓度的增加而急剧降低,高于30 mg/Kg则对浓度变化不敏感,无论在何种铜、铬单一胁迫条件,花魔芋球茎淀粉含量变化曲线与葡甘聚糖含量变化曲线总呈水平镜...??
- 作者：
- 王春全
- 学位授予单位：
- 云南农业大学
- 专业名称：
- 作物栽培学与耕作学
- 授予学位：
- 硕士
- 学位年度：
- 2010年
- 导师姓名：
- 谢世清
- 关键词：
- 花魔芋；铜；铬；魔芋软腐病；繁殖系数
- Amorphophallus Konjac；Copper；Chromium；konjac soft rot disease；coefficient of the breeding