高级检索
全部 主题 学科 机构 人物 基金
词表扩展: 自动翻译: 模糊检索:
当前位置:首页>
分享到:

基于离子溅射技术的硅纳米圆锥阵列的可控制备及其场发射和防反射性能研究

硅纳米圆锥结构具有独特的几何形貌、非常优异的场发射性能和防反射性能及其机械性能,在微电子器件、平板显示器场发射阵列、太阳能电池防反射表面、LED光源增透层和高频器件等领域具有有潜在的应用前景,也可以作为扫描隧道显微镜和原子力显微镜的扫描探针。如果能够在低温条件下采用较低成本而且简单的方法实现大面积高密度硅纳米结构的可控制备,就能调控硅纳米结构的场发射性能和抗反射性能,为此类材料商业化生产的最优化条件和场发射器件和太阳能电池中的应用提供参考依据。
   本论文结合模板法采用Ar离子溅射技术,开展了硅纳米结构的可控制备及其场发射和防反射性能的研究。涉及到的模板有无定形碳和金刚石薄膜。以无定形碳为模板制备硅纳米结构解决了制备中的形貌可控生长的问题,以超薄金刚石薄膜为掩膜制备硅纳米圆锥解决了纳米圆锥大面积、高密度、尺寸和锥角可控性问题,同时研究了硅纳米圆锥阵列的场发射和防反射性能。
   研究结果表明:在Ar离子束室温倾角溅射条件下,以不同厚度碳膜作为模板可以控制形成硅纳米圆锥的表面形貌。随着碳膜厚度从50-60nm、200-300nm、700-800nm增加到1.5微米,制备的硅纳米结构的表面形貌由较光滑平整的表面波纹结构、粗糙的表面波纹形貌、分布密度较高的硅纳米圆锥的表面波纹形貌变到密度为~1.2×109/cm2的硅纳米圆锥阵列,实现了硅纳米结构形貌的可控生长。在Ar离子束室温倾角溅射条件下,以超薄金刚石为模板实现了硅纳米圆锥阵列的可控制备。研究结果表明制备的硅纳米圆锥密度由掩膜的金刚石薄膜颗粒密度控制,同时硅纳米圆锥的长径比可由离子束的入射倾角调控,随着入射倾角由30°增大到75°,制备的硅纳米圆锥锥角由73°减小到23°、其长径比从500 nm/360 nm增大到2400 nm/600 nm。硅纳米圆锥阵列的场发射性能研究表明硅纳米圆锥阵列具有良好的场发射性能,开启电场为2.4 V/μm,和碳纳米管和纳米纤维的场发射性能相当。硅纳米圆锥阵列的光学性能研究表明硅纳米圆锥阵列具有良好的防反射性能,反射率可达到10%。

作者:
谢巧玲
学位授予单位:
中国科学院上海应用物理研究所
专业名称:
粒子物理与原子核物理
授予学位:
硕士
学位年度:
2009年
导师姓名:
巩金龙;周兴泰
中图分类号:
TB383
关键词:
硅纳米圆锥;场发射;可控制备;防反射性能;几何形貌;离子溅射;光学性能
原文获取
正在处理中...
该文献暂无原文链接!
该文献暂无参考文献!
该文献暂无引证文献!
相似期刊
相似会议
相似学位
相关机构
正在处理中...
相关专家
正在处理中...
您的浏览历史
正在处理中...
友情提示

作者科研合作关系:

点击图标浏览作者科研合作关系,以及作者相关工作单位、简介和作者主要研究领域、研究方向、发文刊物及参与国家基金项目情况。

主题知识脉络:

点击图标浏览该主题词的知识脉络关系,包括相关主题词、机构、人物和发文刊物等。

关于我们 | 用户反馈 | 用户帮助| 辽ICP备05015110号-2

检索设置


请先确认您的浏览器启用了 cookie,否则无法使用检索设置!  如何启用cookie?

  1. 检索范围

    所有语言  中文  外文

  2. 检索结果每页记录数

    10条  20条  30条

  3. 检索结果排序

    按时间  按相关度  按题名

  4. 结果显示模板

    列表  表格

  5. 检索结果中检索词高亮

    是 

  6. 是否开启检索提示

    是 

  7. 是否开启划词助手

    是 

  8. 是否开启扩展检索

    是 

  9. 是否自动翻译

    是