立方织构NI及CU-NI基带表面SOE-NIO隔离层与YBCO膜的制备与生长机理研究
金属Ni是制备RABiTS基带的常用材料.但当Ni表面沉积YBCO膜以后,由于Ni具有铁磁性,这一性质将造成交流输电中的磁滞损耗.与Ni相比,Cu-Ni合金属于无磁性材料,因此提出了无磁性的织构Cu-Ni基带的研究内容.经过轧制和高温再结晶退火处理后,纯Ni及Cu<,0.70->Ni<,0.30>分别制备成具有高度立方织构的金属基带. 由于金属基带(Ag除外,但其价格较贵)与YBCO之间存在严重的扩散和反应问题,为了获得高质量的YBCO薄膜,必须在金属基底与YBCO膜之间施加一层或多层隔离层.采用表面氧化外延的方法可以很方便地在织构Ni或CuNi合金基带上制备具有立方织构的NiO隔离层. 采用磁控溅射设备、X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等系统研究了织构{100}<001>Ni基带、Cu-Ni合金基带在空气或低氧分压下的氧化行为,用表面氧化外延(SOE)的方法在织构Ni基带、织构Cu-Ni基带表面成功地生长了NiO(200)隔离层、并在此基础上用磁控溅射的方法沉积了具有超导性能的YBCO薄膜.
- 作者：
- 舒勇华
- 学位授予单位：
- 北京有色金属研究总院
- 专业名称：
- 材料学
- 授予学位：
- 博士
- 学位年度：
- 2002年
- 导师姓名：
- 袁冠森
- 中图分类号：
- TB383
- 关键词：
- YBCO；高温超导；表面氧化外延；无磁性；织构NI；CU-NI合金；磁控溅射
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