EB/AIP系统的建立及离子镀复合涂层结构与性能的研究
在DML-500A型离子镀膜机的基础上建立了一套弧光放电离子镀膜(AIP)装置,形成EBIP/AIP多功能离子复合系统.用AIP工艺成功地制备了性能优良的低温(250℃)TiN涂层.用XRD、SEM、EDAX等测试手段,研究了涂层的组织结构、成分、表面和断口形貌及机械性能.涂层组织致密,呈非常细小的柱状晶,AIP工艺涂层组织中还存在弥散分布的钛颗粒,涂层硬度高,耐磨性好,在中等载荷条件下,涂层呈抛光磨损机制.同时研究了影响涂层颗粒的若干因素.直流电化学测试结果和间浸试验结果表明,涂层中的颗粒是导致涂层对活性基体耐蚀性保护作用失效的主要原因.涂层厚度对耐蚀性有显著影响.当涂层厚度超过涂层的最大颗粒直径时,涂层的耐蚀性会发生质的飞跃,可以作为活性基体的耐蚀性涂层.此外,还研究了涂层厚度对空心阴极离子镀TiN(即HCDIPTiN)和Ti(Y)N(即HCDIPTi(Y)N)涂层的耐蚀性影响.
- 作者：
- 郎丰群
- 学位授予单位：
- 中国科学院金属腐蚀与防护研究所
- 专业名称：
- 金属腐蚀与防护
- 授予学位：
- 硕士
- 学位年度：
- 1996年
- 导师姓名：
- 金柱京；于志明
- 中图分类号：
- TG178
- 关键词：
- 弧光放电离子镀；空心阴极离子镀；TIN涂层；TI(Y)N涂层；间浸实验；耐蚀涂层；离子 镀；腐蚀试验
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